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中科科儀 場發(fā)射掃描電子顯微鏡EM8010
產(chǎn)品型號: |
EM8010 |
品 牌: |
中科科儀 |
|
所 在 地: |
廣東深圳 |
更新日期: |
2025-04-30 |
| 品牌:中科科儀 | | 型號:EM8010 | | 加工定制:是 | |
| 類型:電子 | | 目鏡放大倍數(shù):4-100倍 | | 物鏡放大倍數(shù):8-800000倍 | |
| 儀器放大倍數(shù):8-800000倍 | | 重量:30000 g | | 適用范圍:8-800000倍 | |
| 裝箱數(shù):1套 | | 重量:30000 g | | 適用范圍:8-800000倍 | |
中科科儀 場發(fā)射掃描電子顯微鏡 EM8010
簡介
KYKY-EM8010 場發(fā)射掃描電子顯微鏡 低電壓下能夠保持較好的亮度和較高的分辨率,標(biāo)配光學(xué)導(dǎo)航功能,觀測更便捷。
產(chǎn)品介紹
KYKYEM8010 低電壓下能夠保持較好的亮度和較高的分辨率,束流穩(wěn)定度高、色散小,適宜長時(shí)間的各種精確分析,一鍵standby功能,維護(hù)更方便,軟件操作簡便,提升用戶使用體驗(yàn)。為科研高校、生命科學(xué),新能源等領(lǐng)域客戶提供穩(wěn)定可靠的產(chǎn)品解決方案。
產(chǎn)品特點(diǎn)
1. 1.5nm@15Kv (SE),3nm@30kV (BSE)
2. 低加速電壓保持較好的亮度和分辨率
3. 低加速電壓不導(dǎo)電樣品可直接觀測,無需噴金
4. 肖特基電子槍亮度高、單色性好、電子束斑小、壽命長
5. 束流穩(wěn)定度高,色散小,適宜于長時(shí)間的各種精確分析
6. 一鍵standby 維護(hù)更方便
7. 具備光學(xué)導(dǎo)航,快速樣品定位
中科科儀 場發(fā)射掃描電子顯微鏡 EM8010 技術(shù)指標(biāo):
分辨率 :1.5nm@15KV(SE); 3nm@30KV(BSE)
放大倍數(shù): 光學(xué)放大倍數(shù)4-100倍;電子學(xué)放大8-800000倍
電子槍: 肖特基熱場發(fā)射電子槍
加速電壓: 0.2~30kV
自動調(diào)整功能: 聚焦,亮度/對比度、消像散、電子束對中
探測器: 高真空二次電子探測器;紅外CCD攝像頭;一體化背散射探測器;光學(xué)導(dǎo)航探測器
樣品臺: 五軸全自動中型樣品臺行程: X=80mm,Y=50mm,Z=30mm,T=-5°~+70°,R=360°
*大樣品直徑: Ф175mm;*大樣品高度:20mm;樣品臺具有碰撞報(bào)警功能。
選配探測器: BSE、EDS、EBSD、CL、EBIC等
應(yīng)用領(lǐng)域
氧化亞硅
芯片缺陷分析
磷酸鐵鋰
高分辨率的電子顯微鏡
場發(fā)射掃描電鏡(FESEM)是一種用于高分辨率表面形貌觀察和化學(xué)成分分析的電子顯微鏡。它利用二次電子成像原理,通過在低電壓下觀察生物樣品如組織、細(xì)胞、微生物以及生物大分子等,獲得忠實(shí)原貌的立體感強(qiáng)的樣品表面微形貌結(jié)構(gòu)信息。
FESEM具有高分辨率,能夠進(jìn)行各種固態(tài)樣品表面形貌的觀察,并且配備高性能X射線能譜儀,可以進(jìn)行樣品表層的微區(qū)點(diǎn)線面元素的定性、半定量及定量分析,具有形貌和化學(xué)組分綜合分析能力。
場發(fā)射掃描電鏡是一種高分辨率的電子顯微鏡,其基本原理是利用電子束與樣品表面相互作用,通過探針掃描來獲取樣品表面的形貌和微觀結(jié)構(gòu)信息。場發(fā)射掃描電鏡在納米材料、生物醫(yī)學(xué)、電子元器件等領(lǐng)域的應(yīng)用廣泛,可以觀察到樣品表面的微觀結(jié)構(gòu)和形貌,對樣品的成分、形貌、微觀結(jié)構(gòu)等進(jìn)行分析。
場發(fā)射掃描電鏡在納米材料領(lǐng)域的應(yīng)用廣泛,可以對納米材料的微觀結(jié)構(gòu)和形貌進(jìn)行觀察和分析。例如,在納米材料的制備過程中,可以利用場發(fā)射掃描電鏡觀察到納米材料的形貌和大小,從而對納米材料的性質(zhì)和應(yīng)用進(jìn)行研究。
場發(fā)射掃描電鏡在電子元器件領(lǐng)域的應(yīng)用主要是觀察微電子器件的微觀結(jié)構(gòu)和形貌,可以幫助工程師更好地了解微電子器件的性能和特點(diǎn)。例如,在微電子器件的制造過程中,可以利用場發(fā)射掃描電鏡觀察微電子器件的微觀結(jié)構(gòu)和形貌,從而對微電子器件的性能和可靠性進(jìn)行評估。
綜上所述,場發(fā)射掃描電鏡憑借其好的性能和廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域,在科研和工業(yè)制造中發(fā)揮著越來越重要的作用。
場發(fā)射掃描電鏡應(yīng)用領(lǐng)域
場發(fā)射掃描電鏡廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、無機(jī)非金屬材料及器件、納米材料、生物樣品(如組織、細(xì)胞、微生物及生物大分子)等的檢測和分析。
場發(fā)射掃描電鏡是一種用于材料科學(xué)領(lǐng)域的分析儀器,它主要用于觀察和分析材料的表面形貌和微區(qū)成分。場發(fā)射掃描電鏡具有高分辨率,能夠在低加速電壓下觀察絕緣或?qū)щ娦圆畹臉悠罚?zwnj;這對于研究納米材料等方向有用。此外,場發(fā)射掃描電鏡還配備了X射線能譜儀,可以在觀察樣品表面微觀形貌的同時(shí)進(jìn)行微區(qū)成分定性、定量、元素分布以及相分析,是研究納米材料等方向的有力工具。
在使用場發(fā)射掃描電鏡時(shí),需要注意其運(yùn)行環(huán)境條件的控制,包括溫度、濕度、震動、磁場強(qiáng)度等因素。同時(shí),還需定期檢查和維護(hù)電子光學(xué)系統(tǒng)、真空系統(tǒng)等核心部件,以確保設(shè)備的穩(wěn)定運(yùn)行和長壽命。此外,對于燈絲等易損件需及時(shí)更換并正確維護(hù),以避免對實(shí)驗(yàn)結(jié)果的影響。
場發(fā)射掃描電鏡的特點(diǎn)包括:
高分辨率:二次電子分辨率在1.0nm至2.0nm之間,這有助于觀察材料的細(xì)微結(jié)構(gòu)。
寬放大倍數(shù)范圍:從×20至×800,000,適應(yīng)不同尺度下的觀察需求。
冷陰極場發(fā)射電子源,提供穩(wěn)定的電子束流。
靈活的加速電壓范圍:從0.5kV至30kV,可根據(jù)樣品特性進(jìn)行調(diào)整。
配備X射線能譜儀,進(jìn)行微區(qū)成分分析。
此外,場發(fā)射掃描電鏡還具有在低真空或充入特定氣體條件下進(jìn)行觀察的能力,這使得它能夠直接觀察含水、含油及不導(dǎo)電樣品,而無需進(jìn)行特殊處理。通過向樣品室充入水蒸氣,可以在不破壞樣品的情況下進(jìn)行觀察。此外,場發(fā)射掃描電鏡還可以對樣品進(jìn)行加溫和降溫處理,實(shí)時(shí)觀測化學(xué)反應(yīng)過程,廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、生命科學(xué)、地質(zhì)、有機(jī)化學(xué)等多個(gè)領(lǐng)域的研究和分析。